cmp抛光垫（CMP抛光垫）

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光纤抛光最简单的方法？

在光器件的设计开发中，经常需要对光纤的端面进行抛光，使其达到一定的光洁度与平整度要求，以满足光信号层级间的耦合效率。

对于大芯径光纤及其组成的光纤束而言，光纤端面抛光就显得更加重要了，抛光质量直接影响器件的性能指标。.目前，光纤端面抛光主要采用化学机械抛光法cmp(chemical mechanical polishing)。

cmp是化学的和机械的综合作用，以抛光垫为载体，在一定压力及抛光液存在下，在抛光液中的腐蚀介质作用下光纤表面形成一层软化层

cmp抛光垫（CMP抛光垫）,第1张

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